| 技术规格及参数 | 1.溅射室极限真空度：≤6.****-5 ** (经烘烤除气后)；
真空获得采用*****/***分子泵和优质机械泵（***-9,**/S）+*****电动插班阀，此配置具有抽速快，可获得高真空环境，提供薄膜的洁净度。
系统真空检漏漏率：≤5.****-***.l/S；
系统从大气开始抽气：溅射室**分钟可达到****-4 **；
系统停泵关机**小时后真空度：≤***
2，溅射室中配有3套国产****高性能永磁共焦磁控溅射靶（其中含*个强磁靶,各溅射靶距离可调），靶材尺寸：Ф****。分布在*个圆周上，各靶可独立/顺次/共同工作，磁控靶通水冷却，采用磁控靶在上，垂直向下溅射成膜，磁控靶**、**、**兼容，可以溅射磁性材料，磁控靶配有气动挡板截流结构。磁控靶与基片的距离可调，调节距离为：**~****。
3.样品台布置在真空室底部，可放置最大直径*****样品，样品具有连续旋转功能，旋转0—**转/分连续可调。
4.加热装置在真空室上法兰上，对基片托板进行加热，通过热电偶控制控温电源实现闭环控制，系统由加热器和1个加热控温电源组成，加热电源配备日本进口控温表，控温方式为***自动控温及数字显示；样品加热温度：室温～***°C，连续可调；
5.系统配有*路国产怡东质量流量计+***控制进气系统（氩、氧、氧），流量分别为*******、******、******。 共3路,配备独立混气室；
6.系统配有2台数字式****脉冲直流电源和1台****全自动匹配射频电源。1套-****脉冲偏压电源；
7.加热装置在采用进口氮化钽加热器进行加热，加热温度：室温—****°C，可耐氧气、耐氮气进行化学反应沉积，由热电偶闭环反馈控制，可控可调。
8.尺寸为4英寸的样品可均镀膜，不均匀度 为≤±3%（以镀膜金属薄膜进行验收，镀金属膜厚度约*****）
9.后期提供相关涂层材料的研发协助，包括中熵合金，高熵合金，金属氧化物，高分子涂层等磁控溅射沉积工艺优化以及新型涂层材料开发； |
